【国家标准】电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材

本网站发布时间： 2013-11-22

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标准简介

本标准规定了电子薄膜制备用高纯铝及铝合金靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、存贮、订货单（或合同）等内容。
本标准适用于电子薄膜用各类高纯铝及铝合金溅射靶材（以下简称铝靶）。

标准号：
GB/T 29658-2013
标准名称：
电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材
英文名称：
High-purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film
标准状态：
现行
发布日期：
2013-09-06
实施日期：
2014-05-01
出版语种：
中文简体

【国家标准】 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材