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【国家标准】 电子工业用气体　四氟化硅

本网站 发布时间： 2015-07-01
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适用范围：

本标准规定了四氟化硅的技术要求、试验方法、标志、包装、运输和贮存等内容。本标准适用于萤石硫酸法、六氟硅酸盐热分解法、单质硅直接氟化法制备的四氟化硅。它主要用作电子工业中等离子蚀刻、发光二极管P形掺杂、离子注入工艺、外延沉积扩散的硅源和光导纤维用高纯石英玻璃的原料，也是生产多晶硅的重要原料。分子式：SiF4。相对分子质量：104.0786128（按2009年国际原子相对质量）。

基本信息

  • 标准号：

    GB/T 31058-2014

  • 标准名称：

    电子工业用气体　四氟化硅

  • 英文名称：

    Gases for electronic industry—Silicon tetrafluoride

  • 标准状态：

    现行

  • 发布日期：

    2014-12-22

  • 实施日期：

    2015-07-01

  • 出版语种：

    中文简体

标准分类号

  • 标准ICS号：

    71.100.20

  • 中标分类号：

    G86

关联标准

  • 替代以下标准：

  • 被以下标准替代：

  • 引用标准：

  • 采用标准：

出版信息

  • 页数：

    8 页

  • 字数：

    11 千字

  • 开本：

    大16 开

其他信息

  • 起草人：

    邓建平、李于教、傅铸红、汤有伦、崔学文、方华、唐安江、周鹏云

  • 起草单位：

    核工业理化工程研究院华核新技术开发公司、佛山市华特气体有限公司、绿菱电子材料(天津)有限公司、上海华爱色谱分析技术有限公司、贵州大学、西南化工研究设计院有限公司

  • 归口单位：

    全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)

  • 提出部门：

    全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)

  • 发布部门：

    中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会
  • 其它标准
  • 推荐标准

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