【团体标准】半导体显示用高碱浓度负胶显影液

本网站发布时间： 2024-02-27

T/CEMIA 036-2023
现行
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标准简介

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适用范围：

本文件规定了半导体显示用高碱浓度负胶显影液的缩略语、技术要求、检验方法、检验规则、标志及包装、运输、贮存和安全事项。本文件适用于由氢氧化钾、表面活性剂和水组成，其中氢氧化钾的质量百分比大于8%的半导体显示用高碱浓度负胶显影液。此半导体显示用高碱浓度负胶显影液主要用于半导体制程中负性光刻胶的显影，及薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)或有机发光二极管显示器(OLED)彩膜工艺光刻胶的显影。

基本信息

标准号：
T/CEMIA 036-2023
标准名称：
半导体显示用高碱浓度负胶显影液
英文名称：
High alkali concentration negative photoresist developer for semiconductor display
标准状态：
现行
发布日期：
2023-11-06
实施日期：
2023-12-30
出版语种：
中文简体

标准分类号

标准ICS号：
31.030
中标分类号：
L90

关联标准

替代以下标准：
被以下标准替代：
引用标准：
采用标准：

出版信息

页数：
16 页
字数：
19 千字
开本：
大16 开

其他信息

起草人：
刘小勇、侯琳熙、姚慧君、田博、肖龙强、黄晓莉、黄子勗、房龙翔、陈泽生、肖小江、邱小真、叶鑫煌、李丛香、吴玲玲
起草单位：
福建省佑达环保材料有限公司、福州大学、福建华佳彩有限公司
归口单位：
中国电子材料行业协会
提出部门：
中国电子材料行业协会
发布部门：
中国电子材料行业协会

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