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【国家标准】 微机电系统(MEMS)技术 层状MEMS材料界面黏附能四点弯曲试验方法

本网站 发布时间: 2024-11-07
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适用范围:

本文件描述了基于断裂力学概念的四点弯曲测量方法,利用作用在层状MEMS材料上的纯弯曲力矩,以最弱界面稳态开裂的临界弯曲力矩来测量界面黏附能。
本文件适用于在半导体基底上沉积薄膜层的MEMS器件。薄膜层总厚度宜小于支撑基底(通常是硅晶片)厚度的1/100。

基本信息

  • 标准号:

    GB/T 44514-2024

  • 标准名称:

    微机电系统(MEMS)技术 层状MEMS材料界面黏附能四点弯曲试验方法

  • 英文名称:

    Micro-electromechanical system(MEMS) technology—Four-point bending test method for interfacial adhesion energy of layered MEMS materials
  • 标准状态:

    现行
  • 发布日期:

    2024-09-29
  • 实施日期:

    2024-09-29
  • 出版语种:

    中文简体

标准分类号

  • 标准ICS号:

    31.080.99
  • 中标分类号:

    L59

关联标准

  • 替代以下标准:

  • 被以下标准替代:

  • 引用标准:

  • 采用标准:

    《半导体器件 微机电器件 第31部分:层状MEMS材料界面结合能的四点弯曲试验方法》 IDT 等同采用

出版信息

  • 页数:

    16 页
  • 字数:

    14 千字
  • 开本:

    大16 开

其他信息

  • 起草人:

    王永胜、曹诗亮、尚克军、李根梓、刘韧、汤一、毛志平、孙立宁、王志广、陈德勇、杨旸、要彦清、张鲁宇、鲁毓岚、张新伟、安志武、郑冬琛、路文一、陈得民、张红旗、商艳龙、李帆雅、钱晓晨、高峰
  • 起草单位:

    北京自动化控制设备研究所、合肥美的电冰箱有限公司、中机生产力促进中心有限公司、北京晨晶电子有限公司、山东中康国创先进印染技术研究院有限公司、苏州大学、西安交通大学、中国科学院空天信息创新研究院、深圳市速腾聚创科技有限公司、无锡华润上华科技有限公司、安徽奥飞声学科技有限公司、航天长征火箭技术有限公司、天津新智感知科技有限公司、华东电子工程研究所(中国电子科技集团公司第三十八研究所)、山东中科思尔科技有限公司、苏州和林微纳科技股份有限公司、明石创新(烟台)微纳传感技术研究院有限公司
  • 归口单位:

    全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
  • 提出部门:

    全国微机电技术标准化技术委员会(SAC/TC 336)
  • 发布部门:

    快3网下载安装到手机 、国家标准化管理委员会
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